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| 品牌 | StellarNet | 價格區間 | 20萬-30萬 |
|---|---|---|---|
| 產地類別 | 進口 | 應用領域 | 環保,化工,能源,電子/電池,綜合 |
StellarNet Thin film薄膜測量系統產品概述：
薄膜量測是現代光學鍍膜、半導體器件、顯示器件、光伏材料以及高性能功能化表面研發與生產環節的重要手段。對膜層厚度、光學特性以及鍍膜均勻性開展精准表徵，有助於保障產品性能、工藝穩定性以及生產良率。
StellarNet 薄膜量測系統融合先進光譜分析與光譜反射檢測技術，配套高性能光譜儀、光學配件以及功能優異的分析軟件，實現各類薄膜與鍍膜樣品檢測。該設備平台適配光學鍍膜表徵、半導體量測、工藝監控以及前沿材料研究，可應用於科研、生產、質量控制等多種場景。
薄膜厚度測量：
採用非接觸式光譜光學技術測量薄膜與塗層厚度，適用於光學鍍膜、半導體器件、顯示器件以及前沿材料研究場景。
反射‑透射光譜法
通過分析反射光信號，測定薄膜厚度與光學特性。可對鍍膜開展表徵及工藝監控，檢測速度快、結果準確。
行業應用：
瞭解薄膜測量系統如何服務於多行業的科研、生產以及質量控制工作。
可測量半導體製造中的各類薄膜、介質層、光刻膠以及沈積塗層，支持晶圓表徵、工藝監控與質量控制。
太陽能與光伏測量：
借助光譜光學技術分析薄膜太陽能電池、光伏鍍膜及能源材料，可用於研發以及生產質量驗證。
顯示技術測量
對 LCD、OLED 以及 Micro‑LED 顯示屏所用薄膜與塗層開展表徵，支持工藝開發、質量保證以及顯示性能評估。
光子器件測量採用非接觸薄膜量測與光學表徵技術，對硅光子學器件、光子集成電路（PIC）、光波導、激光光學器件以及量子光子器件開展表徵。
光學鍍膜測量可對增透膜、光學濾光片、反射鏡以及激光光學元件進行表徵。借助光譜量測技術，核驗鍍膜厚度、均勻性以及光學性能。
StellarNet Thin film薄膜測量系統選型表：
| 型號 | 波長範圍 | 分辨率 | 膜厚範圍 | 光源類型 | 價格 |
|---|---|---|---|---|---|
| TF-VIS | 400–1000 nm | <2 nm | 10 nm–75 μm | 可見光 / 近紅外 | $11,500 |
| TF-UVVIS | 200–1100 nm | <2.5 nm | 1 nm–75 μm | 紫外 + 可見光 / 近紅外 | $14,625 |
| TF-NIR | 900–1700 nm | <5 nm | 100 nm–300 μm | 可見光 / 近紅外 | $22,655 |
| TF-VIS-NIR | 400–1700 nm | <2 nm（可見光），<5 nm（>1000 nm） | 10 nm–300 μm | 可見光 / 近紅外 | $25,280 |
| TF-UVVIS-NIR | 200–1700 nm | <2 nm（可見光），<5 nm（>1000 nm） | 1 nm–300 μm | 紫外 + 可見光 / 近紅外 | $28,245 |
顯微測量系統：
| 型號 | 配置說明 | 價格 |
|---|---|---|
| TF-Micro | StellarNet 定制顯微鏡，配備 4×、10×、40× 物鏡，CMOS 130 萬像素相機，光開關及所需耦合配件 | $11,550.00 |
| TF-Micro-AM | StellarNet 定制自動映射顯微鏡，配備 4×、10×、40× 物鏡，CMOS 130 萬像素相機，光開關及所需耦合配件 | $30,975.00 |
技術規格：
| 規格項 | 規格值 | 說明 |
|---|---|---|
| 精度 | 0.1 埃或 0.01%（取較大值） | 重復測量的一致性 |
| 準確度 | 0.2% 或 10 埃（取較大值） | 受膜層堆疊結構影響 |
| 穩定性 | 0.2 埃或 0.02%（取較大值） | 長時間測量穩定性 |
| 光斑尺寸 | 標準 3 毫米，最小可選至 3 微米 | 測量區域大小 |
| 樣品尺寸 | 最小 1 毫米起 | 可測樣品最小尺寸 |
| 電腦操作系統 | StellarPro‑TFC 軟件，支持 32 位與 64 位操作系統 | 兼容 Windows 32/64 位 |
上一產品：ASCH AST-01皮膚角質剝離膠帶
下一產品：ASCH LHT-04皮膚出汗量監測儀
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